微流體成散熱新霸主?微流體冷卻是什麼?台廠概念股有哪些?產業商總覽

文章摘要

微流體冷卻成為AI散熱新焦點!GPU功耗飆升推動晶片內液冷技術崛起,效率提升3倍、降溫65%。解析微流體原理、台廠概念股與供應鏈布局,掌握新一代散熱商機。

隨著人工智慧晶片的效能急速提升,GPU功耗亦倍速攀升。例如業界傳聞 NVIDIA 下一代 Rubin 平台的晶片設計功耗已達 2.3 千瓦。如此龐大的運算熱能讓資料中心能耗飆破天際,傳統散熱技術將在未來幾年內難以勝任。散熱因此成了 AI 基礎建設的瓶頸。

為解決熱量快速堆疊的問題,業界開始關注 微流體冷卻(microfluidics):這項技術在矽晶片背面蝕刻出微米級通道,讓冷卻液直接流經晶片高發熱區並帶走熱量。與傳統冷板或浸沒式冷卻相比,冷卻距離更短、對熱點散熱更精準,今天股編就和大家分享,這項新穎的散熱技術到底是什麼?它會改變現在的散熱供應鏈版圖嗎?台廠相關概念股又有誰?

 

什麼是微流體冷卻?

根據 Dell’Oro Group 的預測,到 2027 年,資料中心液冷市場營收將接近 20 億美元,並在 2020–2027 年間維持 60% 的年均複合成長率 (CAGR)

而近期最震撼的消息,就是微軟發明了這一種革命性的晶片散熱技術,直接在晶片內部做水冷散熱,這項技術長期來看可能會顛覆現有的散熱市場。

微流體冷卻技術簡單來說,就是在晶片背面「刻出髮絲般細小的通道」,讓冷卻液直接流入晶片內部對發熱核心進行散熱。冷卻液幾乎「接觸到」晶片內部的高熱點,就像散熱介質直接貼近熱源一般,因此熱阻極低。在微軟團隊的實驗中,採用微流體通道後,可達到的散熱效率是傳統冷板的3倍以上**GPU晶片的峰值溫度降低約65%。換句話說,微流體冷卻能在相同功耗下大幅降低晶片溫度,或在極限負載下維持晶片穩定運作。

  • 散熱效率: 實驗顯示微流體冷卻效能可達傳統冷板的3倍
  • 溫度降低: GPU 峰值溫度可下降約65%。
  • 冷卻距離: 冷卻液與晶片熱源距離極短,可 「幾乎接觸到」 熱點。

相較於現行的液浸冷卻或冷板冷卻,微流體不需要將熱量透過數層介質傳導出去,而是直接在晶片內部交換熱能,大幅提升散熱效率。

這同時也威脅到目前市場的龍頭老大 Vertiv,微軟到底想做什麼,以及對散熱產業的影響是甚麼?今天股編整理給大家看

散熱技術的世代對決:王者 vs. 新挑戰者

  • 王者 Vertiv (VRT) 的技術:晶片「上」散熱 (On-Chip / Direct-to-Chip)
    • 原理: CPU 像一個發燙的引擎,Vertiv 的做法是在引擎蓋(晶片封裝)上放一塊「冷板 (cold plate)」,然後用水流把熱帶走。
       
    • 優點: 這是目前的主流技術,Vertiv 是市場老大,市佔率第一,並且跟 NVIDIA、Intel 這些晶片巨頭關係好,形成了強大的「生態系統護城河」。短期內,AI 伺服器都需要液冷,也帶動台灣散熱供應鏈。
       
    • 瓶頸: 晶片越來越燙,引擎蓋本身也成了散熱的阻礙,熱量被悶在裡面,散熱效率有極限。
       
  • 新挑戰者微軟 (MSFT) 的技術:晶片「內」散熱 (In-Chip Microfluidics)
    • 原理: 微軟的做法更激進,他們直接在引擎本體(矽晶圓)的背面蝕刻出像葉脈一樣的微小水管,讓冷卻液直接流過晶片內部,最靠近熱源的地方。
       
    • 優點: 散熱效率是舊技術的 3 倍,能讓晶片在需要時「超頻」運轉也不會燒壞,還能實現更密集的 3D 晶片堆疊,是未來高效能運算的關鍵。
       
    • 挑戰: 這是個「未來技術」。要把水管做到晶片裡面非常困難,成本極高,而且有漏水的風險。這需要跟台積電 (TSMC)、Intel 這種晶圓代工廠深度整合,短期內無法普及。

如果未來最高階的晶片都內建了散熱系統,那就不太需要 Vertiv 這種外掛的散熱方案了。散熱的價值和利潤將從 Vertiv 這樣的基础設施公司,轉移到台積電、Intel 這些半導體製造商手上。

像微軟、Google、亞馬遜 (AWS) 這些最大的雲端巨頭,越來越不喜歡買現成的東西。他們開始自己設計晶片、自己設計伺服器,甚至自己設計整個資料中心的散熱系統。如:亞馬遜 (AWS) 覺得市面上的散熱方案都不夠好,就自己開發了一套客製化的液冷系統 (IRHX) 來搭配 NVIDIA 的最新 GPU。

而當最大的客戶正在變成 Vertiv 的競爭對手。這個最高階、最賺錢的市場正在變成一個「圍牆花園」,Vertiv 很難打進去,頂多只能幫他們代工,利潤會被大幅壓縮。

 

微流體 vs. 其他散熱的差異

目前資料中心與伺服器散熱解決方案主要可分為空冷傳統液冷微流體冷卻三大類,各有優缺點

  • 空冷(風扇+散熱片):傳統且成熟的散熱方式,以風扇與熱管將熱帶走。優點是導入成本最低、維護簡單、技術最成熟;缺點是散熱性能最弱。一般空冷極限約在 15 公斤瓦/機櫃(kW/rack)左右,已不足以應對新一代 AI 伺服器的高熱密度。
     
  • 傳統液冷(冷板與浸沒式)
    • 冷板直冷(Direct-to-Chip):採用冷板接觸 CPU/GPU,冷卻液經過機櫃液冷單元(CDU)循環。性能遠勝空冷,可達空冷效率的50~1000倍。優點是可直接整合現有伺服器機殼,成本與難度中等;缺點是仍須管理冷卻液管路,有漏液風險、維護成本亦不低。
       
    • 浸沒式冷卻(Immersion):將伺服器完全浸沒在特殊冷卻液中。單相浸沒提供最佳散熱表現(可實現約10倍的機櫃密度及約50%的能耗節省),噪音近零;雙相設計進一步利用沸騰換熱,效率更高但系統複雜度大幅提升。缺點是需要改造機櫃與伺服器硬體(需使用防絕緣液體),初期投資與維護要求也最高。
       
  • 晶片內微流道冷卻(Microfluidics):將液冷通道直接整合在晶片內部。散熱性能理論上最高:因為冷卻液直接作用於熱源,可實現極短熱阻距離,是散熱效率的天花板。但實現難度也最高:需要全新封裝技術來防止滲漏與腐蝕,同時對製程精度要求極高。專家認為,微流體冷卻可以提供極致效能,但短期內仍將與冷板和液浸等方案並存,而非立即全面取代。

綜合比較,不同方案各自適用於不同需求:空冷成本低但散熱有限;傳統液冷在目前市場上最常見,平衡了效率與複雜度;浸沒式和微流體則可應對極端高密度運算,但部署門檻高昂。換言之,微流體冷卻是散熱效率的極限選項,但也是技術門檻最高的選擇。許多專家預期未來三種方案將並存,企業可依照需求和成熟度進行組合部署。

 

微流體產業挑戰

儘管實驗室數據亮眼,但要將微流體冷卻落實到伺服器與資料中心,還有許多難關待解:

  • 封裝整合:必須研發全新晶片封裝,使冷卻液能「進出晶片」同時嚴防滲漏。一般冷板系統可以簡單拆裝清洗,但微流體系統將管道直接整合在晶片內,一旦滲漏或堵塞可能導致晶片無法維修或損壞,封裝和泄漏檢測成了首要挑戰。微軟指出,他們需要設計完全防漏的封裝結構,並研發新製程步驟將微通道加工納入晶圓生產。
     
  • 可靠性與維護:晶片內冷卻液要求極高純度,任何微粒、氣泡或腐蝕都可能造成堵塞或性能衰退。此外,冷卻系統需經受震動、熱循環等環境應力;現有資料中心的維修流程也要因應晶片整合冷卻而重新設計。以往維修伺服器散熱只需更換冷板,但採用微流體後,如果晶片遇到問題,無法單純拆卸清洗,加工後的晶片維護方式將成新課題。
     
  • 製造良率與成本:在晶圓製造階段加入微通道蝕刻工序,勢必增加製程複雜度與成本。由於蝕刻通道尺寸與人髮相仿,良率控制極具挑戰。目前須對每片晶片封裝前做額外的蝕刻與漏液檢測,使得每片晶圓生產成本倍增。業界擔心,客戶是否願意支付這些額外成本也是推廣路上的另一障礙。
     

總之,微流體冷卻的商業化路徑並不平坦:要同時解決封裝設計製程整合運維等問題,需要半導體廠商、散熱廠商與資料中心業者通力合作才能推動技術落地。

 

台灣散熱與微流體概念股整理

分層

代表公司

重點產品/布局

最新進展與市場傳聞

核心散熱元件層(微通道/冷板/MCL)

健策 (3653)

均熱片、散熱蓋板技術、Micro-Channel Lid (MCL)

傳聞已將次世代 MCL 送交 NVIDIA 測試,有望成為首家量產供應商

雙鴻 (3324)

GPU 水冷板、AMD 均熱片

目前供應 NVIDIA GB300 GPU 水冷板,取得 AMD 認證;投入微流道冷板研發並送樣

奇鋐 (3017)

均熱片、大量產能

曾與中國客戶合作類似方案,若量產順利,有望成為第二供應商

機櫃/系統液冷層(CDU/管路/總成)

廣運 (6125)

高瓦數冷卻分配單元(CDU)、水冷分歧管、GPU 水冷頭

已開發 80/200/300KW 機櫃內 CDU,最高 2500KW 機櫃間 CDU;產品符合 NVIDIA 規格,成功打入供應鏈

伺服器/ODM 整機層(導入與驗證)

廣達 (2382)、緯創 (3231)、緯穎 (6669)、鴻海 (2317)

AI 伺服器整機設計與散熱系統整合

作為整機設計與驗證平台,新散熱方案需通過 ODM 廠認證後才能推廣量產

電源/機房基建層

台達電 (2308)

電源供應器、機房監控與冷卻基建

在資料中心能源管理(PUE/TUE)優化上扮演關鍵角色;隨散熱技術升級,機房冷卻塔/空調設計也需調整

這張表格把「微流體冷卻與高階液冷」相關的台灣產業鏈做了一個層級化的拆解,讓投資人能一眼看出不同公司所處的位置與角色,簡單來說

從上游到下游的供應鏈地圖

  • 核心散熱元件層:直接做散熱關鍵零件(MCL、冷板、均熱片)的公司,如健策、雙鴻、奇鋐。這些公司技術含量高,最貼近新散熱技術的突破。
     
  • 系統液冷層:像廣運,負責把零件整合成完整冷卻系統(CDU、管路、水冷頭),是散熱方案能否進到伺服器的關鍵橋樑。

    整機/ODM層:廣達、緯創、緯穎、鴻海,這些伺服器代工大廠是「驗證門檻」,任何新技術要落地都得先經過他們。

     
  • 電源/基建層:台達電等,雖然不直接做散熱,但因應伺服器功耗與散熱需求,電源管理與機房設計都會隨之受惠。

 

散熱族群意義不同:高力在漲什麼?

那在討論完微流體,團隊想繼續分析近期散熱族群動得厲害,先是9/30健策漲停,後來10/2高力漲停,連帶跟著奇鋐也大漲,但都是散熱族群,其實他們得題材都不太一樣,促使股價上漲得產業邏輯也不一樣,今天團隊來仔細說明一下。

首先我們可以理解,生成式 AI功耗密度推到新高度,光是單機櫃從過去的幾 kW 走到數十 kW,頂規機櫃已逼近百 kW。

空氣散熱講求「把熱吹走」,但現在的問題是每平方毫米的熱通量飆升,空氣的熱容與導熱係數已經沒辦法複合,這才導致了液冷滲透率上升、散熱層級下沉,從機房空調 → 機櫃背門換熱器(RDHx) → 冷板直觸(Direct-to-Chip, D2C)→ 甚至下鑽到封裝層(例如微流道均熱片 Microchannel Lid, MCL),而這正好對應今天我們說的三個主角。

股票

主因

產業面向

驅動邏輯

健策(散熱封裝)

外資點名 MCL 最快 2026H2 導入、技術領先

晶片封裝端(最貼近GPU/ASIC

AI 功耗推升→液冷成主流,MCL把冷卻更貼近裸晶,熱阻最低、效率最高

奇鋐(機櫃散熱)

機櫃水冷滲透率提升+VC需求回溫

系統/機櫃端

GB200/後續機櫃放量帶動水冷、冷板、管路等;手機/PC 端 VC 重啟成長

高力(液冷/熱管理)

Bloom Energy 900MW SOFC 電廠帶動AI資料中心供電配套→液冷系統需求

供電與機電端(電力×熱管理)

超大資料中心(懷俄明 1.8GW 規模專案)成形→燃料電池機組+機房液冷配套拉貨

如今AI 時代的「熱」與「電」,都在往上疊,晶片→機櫃→園區供電三層一起擴充。健策的優勢在於最貼近晶片的散熱技術換代(高難度、高毛利、時點更遠);奇鋐是系統層的水冷標案與今年明年正在放量出貨(能見度較高);高力則是電力與基建外溢,當資料中心從百MW跳到GW 級,供電與機電配套(含液冷)會一起成長。

 

微流體冷卻總結

微流體冷卻代表了散熱效能的極限,但其大規模應用仍需時日。在投資布局上,可採取「核心+周邊」雙軸策略:

  • 核心層面鎖定散熱模組與冷板廠商(如健策、雙鴻、奇鋐等)
     
  • 周邊層面則佈局液冷系統廠(如廣運)及伺服器整機廠,同時留意機房基建和電源廠商的機會

隨著技術逐步成熟,這些公司將共同從高密度 AI 伺服器散熱需求中受益。欲持續關注最新技術與投資機會,請訂閱本專欄,即時獲得更多相關解析與動態。

 

【延伸閱讀】