微流體成散熱新霸主?微流體冷卻是什麼?台廠概念股有哪些?產業商總覽
文章摘要
微流體冷卻成為AI散熱新焦點!GPU功耗飆升推動晶片內液冷技術崛起,效率提升3倍、降溫65%。解析微流體原理、台廠概念股與供應鏈布局,掌握新一代散熱商機。
隨著人工智慧晶片的效能急速提升,GPU功耗亦倍速攀升。例如業界傳聞 NVIDIA 下一代 Rubin 平台的晶片設計功耗已達 2.3 千瓦。如此龐大的運算熱能讓資料中心能耗飆破天際,傳統散熱技術將在未來幾年內難以勝任。散熱因此成了 AI 基礎建設的瓶頸。
為解決熱量快速堆疊的問題,業界開始關注 微流體冷卻(microfluidics):這項技術在矽晶片背面蝕刻出微米級通道,讓冷卻液直接流經晶片高發熱區並帶走熱量。與傳統冷板或浸沒式冷卻相比,冷卻距離更短、對熱點散熱更精準,今天股編就和大家分享,這項新穎的散熱技術到底是什麼?它會改變現在的散熱供應鏈版圖嗎?台廠相關概念股又有誰?
什麼是微流體冷卻?
根據 Dell’Oro Group 的預測,到 2027 年,資料中心液冷市場營收將接近 20 億美元,並在 2020–2027 年間維持 60% 的年均複合成長率 (CAGR)。
而近期最震撼的消息,就是微軟發明了這一種革命性的晶片散熱技術,直接在晶片內部做水冷散熱,這項技術長期來看可能會顛覆現有的散熱市場。
微流體冷卻技術簡單來說,就是在晶片背面「刻出髮絲般細小的通道」,讓冷卻液直接流入晶片內部對發熱核心進行散熱。冷卻液幾乎「接觸到」晶片內部的高熱點,就像散熱介質直接貼近熱源一般,因此熱阻極低。在微軟團隊的實驗中,採用微流體通道後,可達到的散熱效率是傳統冷板的3倍以上**GPU晶片的峰值溫度降低約65%。換句話說,微流體冷卻能在相同功耗下大幅降低晶片溫度,或在極限負載下維持晶片穩定運作。
- 散熱效率: 實驗顯示微流體冷卻效能可達傳統冷板的3倍
- 溫度降低: GPU 峰值溫度可下降約65%。
- 冷卻距離: 冷卻液與晶片熱源距離極短,可 「幾乎接觸到」 熱點。
相較於現行的液浸冷卻或冷板冷卻,微流體不需要將熱量透過數層介質傳導出去,而是直接在晶片內部交換熱能,大幅提升散熱效率。
這同時也威脅到目前市場的龍頭老大 Vertiv,微軟到底想做什麼,以及對散熱產業的影響是甚麼?今天股編整理給大家看
散熱技術的世代對決:王者 vs. 新挑戰者
- 王者 Vertiv (VRT) 的技術:晶片「上」散熱 (On-Chip / Direct-to-Chip)
- 原理: CPU 像一個發燙的引擎,Vertiv 的做法是在引擎蓋(晶片封裝)上放一塊「冷板 (cold plate)」,然後用水流把熱帶走。
- 優點: 這是目前的主流技術,Vertiv 是市場老大,市佔率第一,並且跟 NVIDIA、Intel 這些晶片巨頭關係好,形成了強大的「生態系統護城河」。短期內,AI 伺服器都需要液冷,也帶動台灣散熱供應鏈。
- 瓶頸: 晶片越來越燙,引擎蓋本身也成了散熱的阻礙,熱量被悶在裡面,散熱效率有極限。
- 原理: CPU 像一個發燙的引擎,Vertiv 的做法是在引擎蓋(晶片封裝)上放一塊「冷板 (cold plate)」,然後用水流把熱帶走。
- 新挑戰者微軟 (MSFT) 的技術:晶片「內」散熱 (In-Chip Microfluidics)
如果未來最高階的晶片都內建了散熱系統,那就不太需要 Vertiv 這種外掛的散熱方案了。散熱的價值和利潤將從 Vertiv 這樣的基础設施公司,轉移到台積電、Intel 這些半導體製造商手上。
像微軟、Google、亞馬遜 (AWS) 這些最大的雲端巨頭,越來越不喜歡買現成的東西。他們開始自己設計晶片、自己設計伺服器,甚至自己設計整個資料中心的散熱系統。如:亞馬遜 (AWS) 覺得市面上的散熱方案都不夠好,就自己開發了一套客製化的液冷系統 (IRHX) 來搭配 NVIDIA 的最新 GPU。
而當最大的客戶正在變成 Vertiv 的競爭對手。這個最高階、最賺錢的市場正在變成一個「圍牆花園」,Vertiv 很難打進去,頂多只能幫他們代工,利潤會被大幅壓縮。
微流體 vs. 其他散熱的差異
目前資料中心與伺服器散熱解決方案主要可分為空冷、傳統液冷與微流體冷卻三大類,各有優缺點:
- 空冷(風扇+散熱片):傳統且成熟的散熱方式,以風扇與熱管將熱帶走。優點是導入成本最低、維護簡單、技術最成熟;缺點是散熱性能最弱。一般空冷極限約在 15 公斤瓦/機櫃(kW/rack)左右,已不足以應對新一代 AI 伺服器的高熱密度。
- 傳統液冷(冷板與浸沒式):
- 冷板直冷(Direct-to-Chip):採用冷板接觸 CPU/GPU,冷卻液經過機櫃液冷單元(CDU)循環。性能遠勝空冷,可達空冷效率的50~1000倍。優點是可直接整合現有伺服器機殼,成本與難度中等;缺點是仍須管理冷卻液管路,有漏液風險、維護成本亦不低。
- 浸沒式冷卻(Immersion):將伺服器完全浸沒在特殊冷卻液中。單相浸沒提供最佳散熱表現(可實現約10倍的機櫃密度及約50%的能耗節省),噪音近零;雙相設計進一步利用沸騰換熱,效率更高但系統複雜度大幅提升。缺點是需要改造機櫃與伺服器硬體(需使用防絕緣液體),初期投資與維護要求也最高。
- 冷板直冷(Direct-to-Chip):採用冷板接觸 CPU/GPU,冷卻液經過機櫃液冷單元(CDU)循環。性能遠勝空冷,可達空冷效率的50~1000倍。優點是可直接整合現有伺服器機殼,成本與難度中等;缺點是仍須管理冷卻液管路,有漏液風險、維護成本亦不低。
- 晶片內微流道冷卻(Microfluidics):將液冷通道直接整合在晶片內部。散熱性能理論上最高:因為冷卻液直接作用於熱源,可實現極短熱阻距離,是散熱效率的天花板。但實現難度也最高:需要全新封裝技術來防止滲漏與腐蝕,同時對製程精度要求極高。專家認為,微流體冷卻可以提供極致效能,但短期內仍將與冷板和液浸等方案並存,而非立即全面取代。
綜合比較,不同方案各自適用於不同需求:空冷成本低但散熱有限;傳統液冷在目前市場上最常見,平衡了效率與複雜度;浸沒式和微流體則可應對極端高密度運算,但部署門檻高昂。換言之,微流體冷卻是散熱效率的極限選項,但也是技術門檻最高的選擇。許多專家預期未來三種方案將並存,企業可依照需求和成熟度進行組合部署。
微流體產業挑戰
儘管實驗室數據亮眼,但要將微流體冷卻落實到伺服器與資料中心,還有許多難關待解:
- 封裝整合:必須研發全新晶片封裝,使冷卻液能「進出晶片」同時嚴防滲漏。一般冷板系統可以簡單拆裝清洗,但微流體系統將管道直接整合在晶片內,一旦滲漏或堵塞可能導致晶片無法維修或損壞,封裝和泄漏檢測成了首要挑戰。微軟指出,他們需要設計完全防漏的封裝結構,並研發新製程步驟將微通道加工納入晶圓生產。
- 可靠性與維護:晶片內冷卻液要求極高純度,任何微粒、氣泡或腐蝕都可能造成堵塞或性能衰退。此外,冷卻系統需經受震動、熱循環等環境應力;現有資料中心的維修流程也要因應晶片整合冷卻而重新設計。以往維修伺服器散熱只需更換冷板,但採用微流體後,如果晶片遇到問題,無法單純拆卸清洗,加工後的晶片維護方式將成新課題。
- 製造良率與成本:在晶圓製造階段加入微通道蝕刻工序,勢必增加製程複雜度與成本。由於蝕刻通道尺寸與人髮相仿,良率控制極具挑戰。目前須對每片晶片封裝前做額外的蝕刻與漏液檢測,使得每片晶圓生產成本倍增。業界擔心,客戶是否願意支付這些額外成本也是推廣路上的另一障礙。
總之,微流體冷卻的商業化路徑並不平坦:要同時解決封裝設計、製程整合和運維等問題,需要半導體廠商、散熱廠商與資料中心業者通力合作才能推動技術落地。
台灣散熱與微流體概念股整理
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分層 |
代表公司 |
重點產品/布局 |
最新進展與市場傳聞 |
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核心散熱元件層(微通道/冷板/MCL) |
健策 (3653) |
均熱片、散熱蓋板技術、Micro-Channel Lid (MCL) |
傳聞已將次世代 MCL 送交 NVIDIA 測試,有望成為首家量產供應商 |
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雙鴻 (3324) |
GPU 水冷板、AMD 均熱片 |
目前供應 NVIDIA GB300 GPU 水冷板,取得 AMD 認證;投入微流道冷板研發並送樣 |
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奇鋐 (3017) |
均熱片、大量產能 |
曾與中國客戶合作類似方案,若量產順利,有望成為第二供應商 |
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機櫃/系統液冷層(CDU/管路/總成) |
廣運 (6125) |
高瓦數冷卻分配單元(CDU)、水冷分歧管、GPU 水冷頭 |
已開發 80/200/300KW 機櫃內 CDU,最高 2500KW 機櫃間 CDU;產品符合 NVIDIA 規格,成功打入供應鏈 |
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伺服器/ODM 整機層(導入與驗證) |
廣達 (2382)、緯創 (3231)、緯穎 (6669)、鴻海 (2317) |
AI 伺服器整機設計與散熱系統整合 |
作為整機設計與驗證平台,新散熱方案需通過 ODM 廠認證後才能推廣量產 |
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電源/機房基建層 |
台達電 (2308) |
電源供應器、機房監控與冷卻基建 |
在資料中心能源管理(PUE/TUE)優化上扮演關鍵角色;隨散熱技術升級,機房冷卻塔/空調設計也需調整 |
這張表格把「微流體冷卻與高階液冷」相關的台灣產業鏈做了一個層級化的拆解,讓投資人能一眼看出不同公司所處的位置與角色,簡單來說
從上游到下游的供應鏈地圖
- 核心散熱元件層:直接做散熱關鍵零件(MCL、冷板、均熱片)的公司,如健策、雙鴻、奇鋐。這些公司技術含量高,最貼近新散熱技術的突破。
- 系統液冷層:像廣運,負責把零件整合成完整冷卻系統(CDU、管路、水冷頭),是散熱方案能否進到伺服器的關鍵橋樑。
整機/ODM層:廣達、緯創、緯穎、鴻海,這些伺服器代工大廠是「驗證門檻」,任何新技術要落地都得先經過他們。
- 電源/基建層:台達電等,雖然不直接做散熱,但因應伺服器功耗與散熱需求,電源管理與機房設計都會隨之受惠。
散熱族群意義不同:高力在漲什麼?
那在討論完微流體,團隊想繼續分析近期散熱族群動得厲害,先是9/30健策漲停,後來10/2高力漲停,連帶跟著奇鋐也大漲,但都是散熱族群,其實他們得題材都不太一樣,促使股價上漲得產業邏輯也不一樣,今天團隊來仔細說明一下。
首先我們可以理解,生成式 AI 把功耗密度推到新高度,光是單機櫃從過去的幾 kW 走到數十 kW,頂規機櫃已逼近百 kW。
空氣散熱講求「把熱吹走」,但現在的問題是每平方毫米的熱通量飆升,空氣的熱容與導熱係數已經沒辦法複合,這才導致了液冷滲透率上升、散熱層級下沉,從機房空調 → 機櫃背門換熱器(RDHx) → 冷板直觸(Direct-to-Chip, D2C)→ 甚至下鑽到封裝層(例如微流道均熱片 Microchannel Lid, MCL),而這正好對應今天我們說的三個主角。
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股票 |
主因 |
產業面向 |
驅動邏輯 |
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健策(散熱封裝) |
外資點名 MCL 最快 2026H2 導入、技術領先 |
晶片封裝端(最貼近GPU/ASIC) |
AI 功耗推升→液冷成主流,MCL把冷卻更貼近裸晶,熱阻最低、效率最高 |
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奇鋐(機櫃散熱) |
機櫃水冷滲透率提升+VC需求回溫 |
系統/機櫃端 |
GB200/後續機櫃放量帶動水冷、冷板、管路等;手機/PC 端 VC 重啟成長 |
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高力(液冷/熱管理) |
Bloom Energy 900MW SOFC 電廠帶動AI資料中心供電配套→液冷系統需求 |
供電與機電端(電力×熱管理) |
超大資料中心(懷俄明 1.8GW 規模專案)成形→燃料電池機組+機房液冷配套拉貨 |
如今AI 時代的「熱」與「電」,都在往上疊,晶片→機櫃→園區供電三層一起擴充。健策的優勢在於最貼近晶片的散熱技術換代(高難度、高毛利、時點更遠);奇鋐是系統層的水冷標案與今年明年正在放量出貨(能見度較高);高力則是電力與基建外溢,當資料中心從百MW跳到GW 級,供電與機電配套(含液冷)會一起成長。
微流體冷卻總結
微流體冷卻代表了散熱效能的極限,但其大規模應用仍需時日。在投資布局上,可採取「核心+周邊」雙軸策略:
- 核心層面鎖定散熱模組與冷板廠商(如健策、雙鴻、奇鋐等)
- 周邊層面則佈局液冷系統廠(如廣運)及伺服器整機廠,同時留意機房基建和電源廠商的機會
隨著技術逐步成熟,這些公司將共同從高密度 AI 伺服器散熱需求中受益。欲持續關注最新技術與投資機會,請訂閱本專欄,即時獲得更多相關解析與動態。
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