原子層沉積（ALD）是一種獨特的薄膜沉積技術，其核心在於通過氣相前驅物交替導入反應室，並利用表面自限制反應來逐層沉積薄膜。這種方法使得每次循環只沉積一個原子層，從而實現原子級別的厚度控制。簡單來說，ALD像是化學界的精準堆疊積木，每次只放一層，確保薄膜厚度精確且均勻。
ALD的關鍵優勢在於其表面自限制反應機制。每個前驅物分子只與基材表面特定位置的反應位點結合，一旦所有反應位點都被佔據，反應就會停止。接著，導入另一種前驅物，與先前吸附的分子發生反應，形成新的原子層。由於反應是自限制的，因此薄膜的厚度僅取決於沉積循環的次數，而與前驅物的流量或反應時間無關。這種精密的控制機制確保了薄膜在整個基材表面上的均勻性和一致性。
ALD技術不僅能實現原子級別的厚度控制，還能在複雜的三維結構中實現共形沉積。這意味著，無論結構多麼複雜，ALD都能在每個表面沉積均勻且厚度一致的薄膜。這種特性對於許多應用至關重要，例如在半導體製造中，需要在高深寬比的溝槽或孔洞中沉積薄膜，以確保器件的性能和可靠性。ALD的共形沉積能力使其成為先進半導體製造中不可或缺的技術。
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