EUV（極紫外光）微影技術主要應用於生產最先進、高階的半導體晶片。相較於傳統的 DUV（深紫外光）微影技術，EUV 技術使用極紫外光，能夠在晶片上創建更小、更精密的結構，從而實現更小、更密集的電路設計。這不僅提升了晶片的效能，還提高了能源效率。
EUV 技術讓晶片製造商能夠在相同的晶片面積上整合更多的電路，進而實現更高的效能和更低的功耗。ASML（艾斯摩爾）作為 EUV 光刻機市場的領導者，其技術優勢和長期投入使其保持市場主導地位。EUV 技術的發展，使得晶片製造商能夠不斷突破技術瓶頸，生產出更高效能的晶片產品。
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