DUV深紫外光微影技術光刻機和EUV 極紫外光微影技術光刻機有什麼區別？

DUV 深紫外光微影技術光刻機與 EUV 極紫外光微影技術光刻機之區別

艾斯摩爾（ASML）是全球領先的半導體設備製造商，其最關鍵的產品為微影技術。微影技術的本質是一個投影系統，透過光線穿透帶有電路圖的光罩，將電路圖投印在矽晶片上，這是晶片量產過程中不可或缺的一環。

ASML 主要提供兩大類半導體設備：較為通用的 DUV（深紫外光）微影技術光刻機和用於高階半導體製造的 EUV（極紫外光）微影技術光刻機。DUV 光刻機使用深紫外光，適用於多數晶片製造；而 EUV 光刻機則採用極紫外光，專為生產最先進、高階的半導體晶片而設計。EUV 技術能夠製造出更小、更密集的電路，進而提升晶片的效能和效率。

簡單來說，DUV 光刻機應用廣泛，但 EUV 光刻機則專注於最尖端的晶片製造。由於技術門檻極高，ASML 在 EUV 光刻機市場上擁有近乎壟斷的地位，這使得它成為台積電、三星、英特爾等半導體巨頭不可或缺的合作夥伴。