DUV和EUV光刻機在晶片製造中的具體應用有何不同？

艾司摩爾（ASML）光刻技術在晶片製造中的應用差異

艾司摩爾（ASML），美股代號ASML，是全球領先的半導體設備大廠，也是晶片微影設備的龍頭。其核心技術為微影創新技術，該技術是晶片量產過程中不可或缺的一環。ASML的主要客戶包括台積電（TSM）、三星、英特爾（INTC）等半導體製造巨頭。

微影技術原理

微影技術本質上是一個投影系統，利用光線穿透印有電路圖的光罩，在矽晶片上投印出電路圖。這個過程就像是用投影機將圖像投射到螢幕上，只是在晶片製造中，投影的對象是極小的電路圖，而「螢幕」則是矽晶片。透過微影技術，可以在矽晶片上精確地複製電路設計，實現晶片的功能。

ASML的微影設備種類

ASML主要提供兩大類半導體設備，分別是深紫外光（DUV）微影技術光刻機和極紫外光（EUV）微影技術光刻機。DUV光刻機是一種較為通用的設備，而EUV光刻機則用於高階半導體製造。EUV技術能夠製造出更小、更精密的電路，因此在高階晶片製造中具有不可替代的作用。ASML在EUV市場上擁有近乎壟斷的地位。