DUV光刻機和EUV光刻機在晶片製造中有哪些不同的應用？

DUV光刻機與EUV光刻機在晶片製造中的應用差異

艾司摩爾（ASML）是全球領先的半導體設備製造商，其核心產品為微影技術。微影技術的本質是一種投影系統，透過光線穿透帶有電路圖的光罩，將電路圖投射在矽晶片上，這在晶片量產過程中至關重要。

ASML主要提供兩大類半導體設備：較為通用的DUV（深紫外光）微影技術光刻機，以及用於高階半導體製造的EUV（極紫外光）微影技術光刻機。DUV光刻機使用深紫外光，適用於多數晶片製造；而EUV光刻機則採用極紫外光，專為生產最先進、高階的半導體晶片而設計。EUV技術能夠製造出更小、更密集的電路，進而提升晶片的效能和效率。

簡而言之，DUV光刻機應用廣泛，而EUV光刻機則專注於最尖端的晶片製造。由於技術門檻極高，ASML在EUV光刻機市場上擁有近乎壟斷的地位，使其成為台積電、三星、英特爾等半導體巨頭不可或缺的合作夥伴。