ASML是全球極少數能提供EUV（極紫外光）光刻設備的供應商，這項技術在先進半導體製造中扮演關鍵角色。EUV光刻技術能製造出更小、更密集的電路，這對於追求更高性能和更低功耗的晶片至關重要。台積電、三星等領先晶圓代工廠仰賴ASML的EUV設備，以推進其技術節點，例如7奈米、5奈米，乃至更先進的製程。
EUV技術讓台積電和三星能夠在晶片密度和效能上取得領先。透過EUV光刻，這些公司可以製造出具有更高電晶體密度和更複雜結構的晶片，從而在行動裝置、高效能運算、人工智慧等領域提供更強大的解決方案。例如，台積電的EUV產能被廣泛應用於蘋果、華為等主要客戶的產品中，確保其在市場上的競爭力。
ASML的技術領先地位不僅穩固了其業務，也對全球半導體產業產生深遠影響。然而，市場對ASML的長期成長仍有擔憂，例如2025年第二季度財報顯示，儘管營收表現超出預期，但管理層對2026年的謹慎預期導致股價震盪。此外，地緣政治和貿易政策，如美國的關稅政策，也可能對ASML及其客戶產生影響。儘管存在短期波動，ASML在技術上的不可替代性，為其未來的市場反彈奠定了基礎。
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