ASML的DUV和EUV微影技術光刻機有何區別與應用？

ASML DUV與EUV微影技術光刻機之區別與應用

艾斯摩爾（ASML）身為全球半導體設備市場的領導者，以其微影創新技術聞名。該公司所提供的半導體設備主要分為兩大類：DUV（深紫外光）微影技術光刻機和EUV（極紫外光）微影技術光刻機。這些光刻機對半導體製造商量產晶片至關重要，其客戶包括台積電、三星和英特爾等主要的半導體製造巨頭。

EUV光刻機主要用於高階半導體製造。微影技術通過光線穿透印有電路圖的光罩，在矽晶片上投印出電路圖。ASML在微影技術設備方面的領先地位，使其對於全球半導體產業具有舉足輕重的作用。若沒有ASML的設備，便無法生產最先進的晶片。

ASML與台積電等半導體製造商的緊密合作，使其成為半導體供應鏈中不可或缺的一環。